蔡司扩建2.5万平米EUV光学工厂

近日，德国蔡司半导体制造技术事业部正式披露其奥伯科亨生产基地大规模扩建规划，拟在现有园区内新建总面积2.5万平方米的生产、洁净车间及配套研发楼宇，专为荷兰光刻设备巨头ASML研发并定制EUV光刻机全套核心光学模组。

此举被视为蔡司面向2nm及以下先进制程工艺的关键产能布局，直接回应全球晶圆厂对新一代EUV光刻设备日益迫切的交付需求。

按照ASML最新产能规划，至2027年，Low-NA商用EUV光刻机年产量将在当前65台基础上提升30％，整机装配周期从22周压缩至15-16周；而面向2nm以下工艺的High-NA机型，其单套投影光学镜柱包含超4万个零部件、自重12吨，照明系统另含2.5万个组件、重约6吨，制造难度达精密工程之巅。单块反射镜打磨、抛光及校准耗时数月，最终需在150吨级真空舱内完成原子尺度的形貌检测，整套工艺体系经数十年沉淀，至今无替代方案可复现。

此次产能扩容，不仅将有效缓解全球先进制程芯片上游“光学瓶颈”，更将深刻影响AI算力、移动处理器及数据中心芯片的供给节奏，进一步巩固蔡司在超高精度半导体光学领域的独家战略地位。