Electro Optics· James Wormald·· 1 天前AI 评分55
光学行业光学与 AI西门子称EUV光刻仿真提速10倍以上
Siemens reports over 10 times faster EUV lithography simulation with new technique
AI 导读
西门子与英伟达合作的新技术使EUV计算光刻仿真提速10倍以上，支持先进AI芯片的复杂图形化。
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The company says its collaboration with Nvidia will help speed up computational lithography methods and support complex patterning for advanced AI chips
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来源：Electro Optics · electrooptics.com