芯片需求持续增长,ASML研究进一步扩大光刻设备产能
ASML表示,现有2027年和2028年供给计划无法完全满足客户需求,正研究在此前30%增幅计划之外进一步扩大2028年产能。截至9月27日的季度销售额为€11.7 billion,较去年同期增长超过50%。明年拟推出的NXE:3800F EUV光刻设备将把生产率从每小时230片晶圆提高至260片晶圆。
推荐理由:设备扩产与生产率升级同时推进,给出了理解AI需求如何传导至EUV光刻设备供给约束的具体产业线索。
激光器、超快激光、激光加工与激光应用。
ASML表示,现有2027年和2028年供给计划无法完全满足客户需求,正研究在此前30%增幅计划之外进一步扩大2028年产能。截至9月27日的季度销售额为€11.7 billion,较去年同期增长超过50%。明年拟推出的NXE:3800F EUV光刻设备将把生产率从每小时230片晶圆提高至260片晶圆。
推荐理由:设备扩产与生产率升级同时推进,给出了理解AI需求如何传导至EUV光刻设备供给约束的具体产业线索。
Lumentum CEO Michael Hurlston在东京接受采访时表示,部分产品明年仍有约70%的需求无法满足,另有部分产品到2028年仍有30%的需求缺口,公司2029年产能几乎已被订满,正全力扩产。
推荐理由:原文给出了具体的需求缺口比例,可直观反映AI光通信上游激光芯片的紧缺程度
上海光机所高功率激光物理联合实验室针对高功率激光装置全链路光学元件快速精密准直的需求,提出基于改进YOLOv8-seg的光斑分析系统,并完成实验验证。
推荐理由:原文展示了深度学习分割模型用于激光装置准直的工程实例,是AI进入光学装调的案例