芯片需求持续增长，ASML研究进一步扩大光刻设备产能
ASML表示，现有2027年和2028年供给计划无法完全满足客户需求，正研究在此前30%增幅计划之外进一步扩大2028年产能。截至9月27日的季度销售额为€11.7 billion，较去年同期增长超过50%。明年拟推出的NXE:3800F EUV光刻设备将把生产率从每小时230片晶圆提高至260片晶圆。
推荐理由：设备扩产与生产率升级同时推进，给出了理解AI需求如何传导至EUV光刻设备供给约束的具体产业线索。
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第 1–3 条 · 共 3 条optics.org（SPIE 产业新闻）光学行业光学与 AI精选AI 评分7474
OFweek光学网·资讯光学行业光学与 AI精选AI 评分6565 鲲游光电完成超10亿元C+轮融资，12寸晶圆级光学产线2027年通线
鲲游光电宣布完成超10亿元C+轮融资，投资方未披露。公司在上海临港投资20亿元建设的12寸晶圆级光学产线预计2027年竣工通线，面向AR、光纤光学、光通信、车载光学和光计算市场。这是其2026年1月C轮、4月近4亿元C+轮后的又一轮融资。
推荐理由：原文列出了年内三轮融资和12寸晶圆级光学产线进度，可帮助理解晶圆级光学的资本与产能布局
光电汇·风口光学行业光学与 AI精选AI 评分6161 苏大维格大型直写光刻设备交付，拟转让华日升100%股权
苏大维格宣布自主研发的大型直写光刻设备顺利交付，用于光子芯片、光通信和光芯片等领域材料的光刻制造。设备支持大面积衬底实时三维导航自聚焦、曝光临近效应补偿等功能，另有数个大型光刻设备合同待陆续交付。公司还拟以5.5亿元转让华日升100%股权，将资源集中于微纳光学相关设备与材料。
推荐理由：设备交付与反光材料业务退出计划共同呈现资源向微纳制造集中的路径，可用于理解苏大维格技术布局与商业化方向。