芯片需求持续增长，ASML研究进一步扩大光刻设备产能
ASML表示，现有2027年和2028年供给计划无法完全满足客户需求，正研究在此前30%增幅计划之外进一步扩大2028年产能。截至9月27日的季度销售额为€11.7 billion，较去年同期增长超过50%。明年拟推出的NXE:3800F EUV光刻设备将把生产率从每小时230片晶圆提高至260片晶圆。
推荐理由：设备扩产与生产率升级同时推进，给出了理解AI需求如何传导至EUV光刻设备供给约束的具体产业线索。
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第 1–7 条 · 共 7 条optics.org（SPIE 产业新闻）光学行业光学与 AI精选AI 评分7474
OFweek光学网·资讯光学行业光学与 AI精选AI 评分6565 鲲游光电完成超10亿元C+轮融资，12寸晶圆级光学产线2027年通线
鲲游光电宣布完成超10亿元C+轮融资，投资方未披露。公司在上海临港投资20亿元建设的12寸晶圆级光学产线预计2027年竣工通线，面向AR、光纤光学、光通信、车载光学和光计算市场。这是其2026年1月C轮、4月近4亿元C+轮后的又一轮融资。
推荐理由：原文列出了年内三轮融资和12寸晶圆级光学产线进度，可帮助理解晶圆级光学的资本与产能布局
上海光机所·科研动态光学行业精选AI 评分6363 上海光机所用纳米压印制备大面积宽角宽带减反超构表面
上海光机所高功率激光元件技术与工程部团队用纳米压印制备大面积双面熔融石英纳米柱超构表面，实现可见至近红外波段宽带、宽角度减反，并具有良好的高温稳定性和激光损伤耐受能力。
推荐理由：原文给出了可量产的纳米压印工艺和激光损伤耐受性，对高功率激光光学元件有实际参考价值
上海光机所·科研动态光学行业精选AI 评分6969 上海光机所首次实现EUV光源绝对波前测量
上海光机所与哈工大用光子筛首次实现EUV光源绝对波前测量，解决极紫外与软X射线光源绝对波前测量难题。
光电汇·简讯光学行业精选AI 评分6161 北航开发激光诱导石墨烯智能蜂窝的定制化制备方法
北京航空航天大学罗斯达教授团队开发结构可设计的激光诱导石墨烯智能蜂窝制备方法，可调控孔格尺寸、形状及石墨烯团簇。工艺结合石墨烯纸、聚氨酯膜层压与树脂浸渍固化，制得约150×100×10 mm3结构及孔格尺寸2 mm至5 mm的蜂窝。团队还探索了机翼截面模型在防冰除冰、压力传感和电磁防护等方面的应用。
推荐理由：将激光加工参数、蜂窝几何和树脂含量连到性能调控上，提供了从二维材料加工迁移到可定制三维结构的工艺思路。
光电汇·风口光学行业精选AI 评分6363 Mini和Micro LED制程难题如何用炬光科技激光方案解决？
炬光科技以激光巨量转移、巨量焊接和芯片修复应对Mini和Micro LED制程难题，关键在于光斑调控、能量均匀性与温控闭环。用于巨量焊接的Flux H系统采用4000-10000W、976nm光源，光斑长宽可在2mm到200mm分段连续调节，能量均匀度>97%。用于芯片修复的Flux H系统采用30-150W、976nm光源，光斑为365um×105um，能量均匀度>90%。
推荐理由：把巨量转移、焊接与修复分别对应到光斑和热管理要求，提供了从显示制造瓶颈反推激光系统设计参数的具体方法。
光电汇·风口光学行业光学与 AI精选AI 评分6161 苏大维格大型直写光刻设备交付，拟转让华日升100%股权
苏大维格宣布自主研发的大型直写光刻设备顺利交付，用于光子芯片、光通信和光芯片等领域材料的光刻制造。设备支持大面积衬底实时三维导航自聚焦、曝光临近效应补偿等功能，另有数个大型光刻设备合同待陆续交付。公司还拟以5.5亿元转让华日升100%股权，将资源集中于微纳光学相关设备与材料。
推荐理由：设备交付与反光材料业务退出计划共同呈现资源向微纳制造集中的路径，可用于理解苏大维格技术布局与商业化方向。